繼彤程新材(603650)之后，上海新陽(300236)也開始聯手外商開發半導體光刻膠。

12月17日晚間，上海新陽披露與Heraeus（賀利氏科技集團）簽署了《合作備忘錄》，雙方計劃共同開發半導體行業用光刻膠產品及相關材料；合作期限自雙方簽署之日起3年。公司簽署該協議旨在完善光刻膠供應鏈，為光刻膠項目的開展提供材料和技術保障。

上海新陽表示，作為國內集成電路制造關鍵工藝材料供應商，公司自立項進行光刻膠項目研發以來，目標為突破集成電路高端光刻膠國外壟斷，實現集成電路高端光刻膠材料的國產化作為發展目標，在ArF干法、KrF 厚膜及I線光刻膠方面已有技術與產品的突破，部分產品已經拿到訂單；合作方Heraeus業務涵蓋環保、電子、 健康和工業應用等領域， 2020年財年，Heraeus的總銷售收入為315億歐元。

對于本次與Heraeus簽署本協議，上海新陽表示雙方合作旨在完善光刻膠供應鏈，為光刻膠項目的開展提供材料和技術保障，對加快公司集成電路制造用光刻膠產品研發項目進度有積極影響，有利于加速落實公司發展戰略，提高公司可持續發展能力。

記者注意到，Heraeus系德國的全球化的家族式投資，旗下化學材料板塊開創了產品PEDOT（商品名CleviosTM）為導電聚合物樹立了行業標準，公司超高純度特用型化學品是半導體、顯示屏、電子和航天航空領域的關鍵材料。

目前上海新陽集成電路制造用高端光刻膠產品正在開發中，其中，公司自主研發的KrF光刻膠產品已通過客戶認證，并成功取得訂單，光刻膠項目取得重大突破。另外，光刻機作為光刻膠研發的重要設備，上海新陽采購了用于I線光刻膠研發的Nikon-i14型光刻機，用于KrF光刻膠研發的Nikon-205C型光刻機，用于 ArF干法光刻膠研發的ASML-1400型光刻機，用于ArF浸沒式光刻膠研發的ASML XT 1900 Gi型光刻機。

今年上半年，上海新陽完成定增7.82億元以及發行中期票據1億元，用于高端光刻膠、蝕刻液等項目投資，累計投入光刻機項目募資1.53億元。不過，今年前三季度上海新陽增收不增利，凈利潤實現8492萬元，同比下降約一半。公司表示系中芯國際股票股份價格波動導致的浮盈減少。

同日，熱門光刻膠概念股彤程新材也在投資者平臺上表示，將通過公司全資子公司上海彤程電子材料有限公司在上?；瘜W工業區內使用自籌資金約7億元，投資建設“ArF高端光刻膠研發平臺建設項目”，項目預計于2023年末建設完成。

值得注意的是，11月份彤程新材旗下主要負責光刻膠開發的北京科華微電子材料有限公司也與杜邦電子宣布開展合作計劃，雙方圍繞 “先進光刻膠”和“其它光刻材料”簽署了戰略合作協議，為中國集成電路芯片制造商提供高性能光刻材料。對于聯合歐美巨頭合作，業內人士表示，將會加快國內半導體光刻膠進度，但也存在技術路徑依賴的擔憂。

據了解，中國光刻膠市場基本由外資企業占據，高分辨率的KrF和ArF光刻膠核心技術基本被日本和美國企業所壟斷，產品也基本出自日本和美國公司，包括杜邦、JSR株式會社、信越化學、東京應化工業、Fujifilm，以及韓國東進等企業，外資企業也在積極布局國內光刻膠市場。

JSR（上海）技術總監皇甫俊日前參加活動中表示，為了應對中國大陸市場的需求，JSR不但把顯示事業部搬到上海，而且也把部分材料放到國內常熟工廠生產。另外，目前中國有不少企業在加大材料開發的力度，JSR會逐漸與中國大陸一些上游原材料供應商進行洽談合作，以應對市場的激烈競爭。